产品详细参数如下:
产品类别 合金靶材
产品简称 CoNbZr
产品全称 Cobalt niobium zirconium
产品纯度 99.9%,99.95%,99.99%
产品形状 平面靶,柱状靶,电弧靶,异型靶
生产工艺 Vacuum Melting
最大尺寸 L≤200mm,W≤200mm
钴铌锆合金靶材产品详情:
钴铌锆靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是由高纯钴、铌、锆经过高真空熔炼得到铸坯,再经加工得到的产品,具有特定的尺寸和形状的高纯钴铌锆材料,安装在真空镀膜机上,溅射成膜。CoNbZr合金靶材溅射得到的纳米晶磁性薄膜,与多晶态薄膜,主要是钴Co,钴铁CoFe和坡莫合金NiFe三种磁性薄膜,其中的非磁性隔离层是
铜Cu等
贵金属材料形成的三明治膜层,具有极薄的总体厚度(10nm左右),较大的磁阻效应(10%以上),稳定的单畴态,优越的翻转特性,翻转场均匀性偏差<8%,是生产RAM、MRAM等存储器件的重要的膜层材料。