钼溅射靶材描述
在电子工业中,钼溅射靶材主要用于平板显示器、薄膜
太阳能电池的电极和布线材料以及半导体的阻挡层材料。这些是基于钼的高熔点、高导电性、低比阻抗、良好的耐腐蚀性和良好的环境性能。
参数
规范
组成:钼(Mo1,TZM)
纯度: ≥99.95%
密度:10.2g/cm³
晶粒度:≤100µm2或根据要求
粗糙度:Ra≤0.4μm
平面度公差:<4μm
备注:所有规格均可根据客户要求定制。
原子序数:42
CAS编号:7439-98-7
原子质量:95.94[g/mol]
熔点:2620摄氏度
沸点:4639摄氏度
20°C时的密度:10.22[g/cm³]
晶体结构:体心立方
20°C下的线性热膨胀系数:5.2 × 10-6 [m/(mK)]
20°C时的热导率:142[W/(mK)]
20°C时的比热:0.25[J/(gK)]
20°C时的电导率:17.9 × 106 [S/m]
20°C时的比电阻:0.056[(Ωmm2)/m]
应用:
太阳能电池、平板显示器、半导体工业、微电子、汽车灯具和装饰涂料,镀膜玻璃行业(包括建筑玻璃、汽车玻璃、光学玻璃和其他薄膜)等。