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单点膜厚测量仪

单点膜厚测量仪

浏览量 713
规格/型号:F20
品牌:纳腾
应用领域:检测设备
产地:上海 - 上海
厂家/供应商:上海纳腾仪器有限公司
咨询电话::021-6428 3335(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2025-07-07
级别:待认证

单点膜厚测量仪说明介绍

F20单点膜厚测量仪

F20单点膜厚测量仪


KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量,其测量范围从nm-mm,可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量,被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品,可测量从几mm到450mm大小的样品,薄膜厚度测量范围1nm到mm级。

测量原理-光谱反射:

光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应(绝大多数薄膜都是旋转对称)。因为不涉及多种移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首选,而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间,两种技术都可用。

主要应用:

测量厚度、折射率、反射率和穿透率:

单层膜或多层膜叠加

单一膜层

液态膜或空气层

技术能力:

光谱波长范围:190-1700nm

厚度测量范围:1nm-250μm

测量n&k小厚度:50nm

准确度:取较大值,1nm或0.2%

分辨率:0.02nm

稳定性:0.05nm

光斑大小:1.5mm

样品尺寸:直径从1mm到300mm或更大

半导体薄膜:光刻胶、工艺薄膜、介电材料

液晶显示:OLED、玻璃厚度、ITO

光学镀膜:硬涂层厚度、减反涂层

高分子薄膜:PI、PC
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