热舟蒸发源 / K Ce
	
	热舟蒸发源是一种用于实现轻薄薄膜金属沉积的设备,特别适用于薄层沉积、光学涂覆、混合层沉积和金属电极接触等应用。该设备由高质量、高真空兼容材料制成,能够在超高真空环境下加热至250℃,确保沉积过程的稳定性和纯度。热舟蒸发源支持手动或马达驱动挡板,最大工作电流可达100A,可根据客户需求定制,满足多样化的薄膜制备需求。
	
	我司提供的热舟蒸发源可以用来实现轻薄薄膜金属沉积.
	
	我司提供的这款热舟蒸发源是由高质量,完全与高真空兼容材料构成,并且可以烘烤至250℃。
	
	应用范围:
	
	薄层沉积;
	
	光学涂覆;
	
	混合层沉积;
	
	金属电极接触。
	
	配置参数:
	
	按照客户需求定制热舟蒸发源;
	
	手动/马达驱动 挡板
	
	超高真空下,可加热到250度
	
	最大工作电流 100A
	
	配备挡板