货号 | CAS号 | 编号 | 包装 | 参数 |
101046 | 7440-33-7 | XFG19 | 1 盒 | 基底尺寸: 10 mmx10 mm |
产品名称
中文名称:机械剥离
氧化铝基底单层二硫化钨
英文名称:Mechanical exfoliation WS2 on Al2O3
性质
形态:薄膜
参数
基底:氧化铝
基底尺寸:10 mmx10 mm
单层WS2面积:>10μm2
应用
先丰纳米**推出机械剥离制备的二硫化钨,该类材料具有缺陷少,优异的光学性质,可以研究层数和荧光效应,此外,由于保持了原有晶格结构,所以该类材料是制备器件的理想材料。