本发明提供了一种制备透射电镜样品的方法,包括:提供待观测
芯片,所述待观测芯片包含一待观测区域;对所述待观测芯片的正面和/或背面进行减薄,得到初样;将一空心环固定在所述初样正面,所述待观测区域位于所述空心环内;通过干法刻蚀对所述初样进行减薄,得到透射电镜样品。在本发明提供的制备透射电镜样品的方法中,将一空心环固定在减薄处理后的初样上,通过空心环来确定待观测区域,再通过干法刻蚀所述减薄后的初样,从而制备成适合透射电镜观测的样品,形成超大面积的观测区域,满足相关案例需求,填补失效分析技术空白,提高工作效率。
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