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真空测量装置控制系统及半导体加工装置

967   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:23
本发明公开了一种真空测量装置控制系统及半导体加工装置,真空测量装置控制系统包括真空测量装置、真空获得装置,真空测量装置通过电源供电,真空测量装置与电源之间连接有监控复位电路;当真空测量装置向真空获得装置发出的开关信号失效时,监控复位电路对真空测量装置进行一次断电、上电的复位过程,对于真空规由于环境因素波动引起的瞬间故障,能够通过复位过程排除,避免造成分子泵的频繁起停,增强了机台的可靠性和在线故障诊断性能。
声明：
“真空测量装置控制系统及半导体加工装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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