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光学系统薄膜分析方法、设备及存储介质

795   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:59:58
本申请公开了一种光学系统薄膜分析方法、设备及存储介质，该方法包括：根据未加膜的光学系统中不同面型元件上的角度分布，设计添加对应的极紫外多层膜；利用空间光线追迹对每条入射光线在极紫外多层膜中的传播过程建立等效反射点，并计算等效反射点的坐标，以及计算入射光线经等效反射点反射后形成的出射光线在膜表面上的坐标；对加膜后的光学系统逐面追迹直至出瞳面；在出瞳处计算加膜后的光学系统的成像质量并进行评估。这样将单条光线在多层膜中反射过程转化为在等效反射点处反射，完善了平均入射角概念在大入射角度失效的缺陷，不仅能将光在多层膜中复杂的物理光学过程转化为几何光学内容，而且精确用于对镀膜光学系统的分析评估和优化。
声明：
“光学系统薄膜分析方法、设备及存储介质” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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