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用于测量薄膜厚度的SHEL分裂位移测量方法

760   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:58:26
本发明公开了一种用于测量薄膜厚度的SHEL分裂位移测量方法，步骤一建立薄膜厚度对应的SHEL分裂位移随入射角变化的理论曲线图；步骤二选取一组入射角度，使入射光以某一初始角度入射到薄膜表面获取经薄膜反射后的光束图像并将图像进行处理得到相应的SHEL分裂位移；步骤三依次改变入射角度得到SHEL分裂位移随入射角度变化的测量曲线；步骤四比对步骤一所得SHEL分裂位移随入射角度变化的理论曲线和步骤三所得测量曲线确定薄膜的厚度。本发明的有益效果是：本发明是利用SHEL的分裂位移与薄膜厚度的关系，实现了对金属和非金属所有材料薄膜厚度的非接触、无损的高精度测量，且该测量系统结构简单、便于操作。
声明：
“用于测量薄膜厚度的SHEL分裂位移测量方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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