本发明涉及等离子化学气相沉积技术领域,公开了压力控制系统及控制该系统的压力控制方法。其中,压力控制系统包括:与真空腔体通过真空管道连接的
真空泵,真空管道上设置有电控制阀门;用于测量真空腔体的真空度的真空计,真空计和电控制阀门通过可编程序控制器通信连接。本发明所提供的压力控制系统能够自发调节真空腔体内的压力,使得气压保持在一定范围内。
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