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含硅混阴离子非线性光学晶体及其制备方法和应用

660   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:56:59
本申请提供了一种含硅混阴离子非线性光学晶体，化学式为：Ba5Ga2SiO4S6，具有优良的二阶非线性光学性质，即在红外波段能够实现相位匹配，具有宽的光学带隙(如Eg＝4.03eV)，其粉末倍频强度可达到商用材料AgGaS2的0.65倍，且其激光损伤阈值是AgGaS2晶体的17.5倍，很好地实现了大的二阶倍频系数和宽的光学带隙的平衡，且制备方法简洁，在激光频率转换、近红外探针、光折变信息处理等高科技领域有着重要的应用价值，尤其是用于红外探测器和红外激光器。
声明：
“含硅混阴离子非线性光学晶体及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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