本申请公开一种纳米片状钼掺杂具有氧缺陷三氧化钨、其制备方法及应用,属于材料化学技术领域。本发明专利包括纳米片状钼掺杂具有氧缺陷三氧化钨的制备,电催化还原氨性能测试,氨产量标准曲线的绘制,电催化还原氨性能的表征及稳定的的测试。生长在导电玻璃上的纳米片状钼掺杂具有氧缺陷三氧化钨在电催化氮还原(NRR)领域表现出优异的催化活性,‑0.4 V(相对标准氢电极)下氨产率高达到198nmol h
‑1 cm
‑2,同时纳米片在反应前后也展现了优异的稳定性。
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“纳米片状钼掺杂具有氧缺陷三氧化钨、其制备方法及应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)