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半导体装置、半导体结构的形成方法

1018   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:23:07
一种半导体装置、半导体结构的形成方法，其中所述半导体结构的形成方法，包括：提供半导体衬底，在所述半导体衬底上形成介质层；采用化学机械研磨工艺平坦化所述介质层；进行测量步骤，测量平坦化后的介质层厚度；判断测量的介质层厚度是否达到目标厚度，若平坦化后的介质层的厚度未达到目标厚度，获得测量的介质层的厚度与目标厚度的差异值，并基于该差异值进行沉积步骤，在平坦化后的介质层上形成第一补偿介质层；若平坦化后的介质层的厚度达到目标厚度，则结束。本发明的方法通过自动测量和反馈的方式形成第一介质补偿层，提高了形成的介质层厚度的精度。
声明：
“半导体装置、半导体结构的形成方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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