本发明属于光学薄膜低折射技术领域,具体涉及一种SiO2薄膜红外特征吸收峰数量确定方法。本发明涉及光学薄膜在红外特征吸收峰叠加情况,对叠加吸收峰数量的精确分解方法,具体提出一种对薄膜材料红外特征吸收光谱吸收峰数量的确定方法,其将不同的吸收峰等效为化学物质的成分,利用红外光谱测量技术确定化学物质成分组成的原理,对薄膜样品进行处理后进行吸收峰数量的确定。本发明优点是在于可以准确确定薄膜的吸收峰数量,特别是对于相近吸收峰叠加的情况效果最为明显。由此,本发明提出通对吸收峰的分解方法,实现能够精确确定吸收峰的叠加数量,为材料介电常数的反演计算奠定技术基础。
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