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计算光刻建模方法及装置

709   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:14:38
本申请涉及集成电路制造技术领域，公开了一种计算光刻建模方法及装置，在该方法中，通过获取测试图形包含的图形单元的类型，确定光学模块组，然后根据光学模块组，获取物理光学模型的参数。计算光学模块组在光刻胶上的理想光强分布，并根据理想光强分布以及光学模块组在所述光刻胶上激发的光化学反应，获取光化学模型的参数。接着模拟测试图形在所述光刻胶上形成的边界位置，并获取所述测试图形的关键尺寸仿真数据，若关键尺寸测量数据与关键尺寸仿真数据之间的拟合误差不大于预设的容许误差，则建立计算光刻模型。本申请公开的计算光刻建模方法，通过建立不同的光学模块对不同的图形单元进行仿真，有效提高了计算光刻模型的精度。
声明：
“计算光刻建模方法及装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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