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抛光机

803   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:13:34
本实用新型涉及化学机械抛光技术领域，具体而言，涉及一种抛光机；抛光机包括基盘、抛光垫、抛光头、温度传感器和水冷组件，抛光垫设置于基盘的第一端面；抛光头设置于抛光垫的上方，且抛光头用于设置待抛光的晶片，在晶片设置于抛光头的情况下，晶片位于抛光头和抛光垫之间；温度传感器设置于基盘，用于检测抛光垫的温度；水冷组件用于将冷却水输送至基盘的第二端面。本实用新型的抛光机能够改善抛光温度控制的误差和滞后性，提高控制的准确性和稳定性，进而改善抛光的质量和成功率。
声明：
“抛光机” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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