本发明涉及一种基于
石墨烯量子点阵列的SERS基底的制备方法,包括在绝缘衬底表面生长石墨烯量子点阵列和在石墨烯量子点阵列上沉积柔性透明金属导电薄膜两大步骤。在石墨烯量子点阵列的制备中,以中间Ge量子点阵列作为金属催化层,可以确保在绝缘衬底表面化学气相沉积得到石墨烯量子点阵列的同时,还可以在生长完成后进行氧化退火将其去除。在柔性透明金属导电薄膜的制备中,利用石墨烯量子点阵列作为底层,在其表面均匀沉积柔性透明金属导电薄膜,增加了比表面积,可以有效增强被检测分子的信号强度。
声明:
“基于石墨烯量子点阵列的SERS基底及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)