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原子层沉积MgZnO薄膜及其研究方法和应用

914   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:45:48
本发明涉及技术领域，具体涉及一种原子层沉积MgZnO薄膜及其研究方法和应用，由如下组分进行反应制得：H2O、二乙基锌Zn(CH2CH3)2(DEZn)、一路镁源、二茂镁Mg(C5H5)2(CP2Mg)；对Hr‑ZnO衬底进行生长前表面的氧辅助的离子体预处理；二乙基锌DEZn被通入生长腔室，并在Hr‑ZnO衬底表面发生自限表面化学吸附并形成Zn(CH2CH3)*表面态；随后与通入的氧源前驱体H2O进行反应，产生ZnOH*；将反应副产物CH3CH3和余量的前驱体源清除，将镁前躯体CP2Mg与产生的表面态ZnOH*反应得到新的表面态Mg(C5H5)*；将表面态Mg(C5H5)*与通入的前驱体H2O反应获得MgOH*，将MgZnO薄膜表面喷Pt(3nm)处理之后通过EDS能谱分析来进行薄膜的成分的定性及定量分析，可得薄膜的组分。
声明：
“原子层沉积MgZnO薄膜及其研究方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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