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原子层沉积MgZnO薄膜及其研究方法和应用

856   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 07:45:48
本发明涉及技术领域,具体涉及一种原子层沉积MgZnO薄膜及其研究方法和应用,由如下组分进行反应制得:H2O、二乙基锌Zn(CH2CH3)2(DEZn)、一路镁源、二茂镁Mg(C5H5)2(CP2Mg);对Hr‑ZnO衬底进行生长前表面的氧辅助的离子体预处理;二乙基锌DEZn被通入生长腔室,并在Hr‑ZnO衬底表面发生自限表面化学吸附并形成Zn(CH2CH3)*表面态;随后与通入的氧源前驱体H2O进行反应,产生ZnOH*;将反应副产物CH3CH3和余量的前驱体源清除,将镁前躯体CP2Mg与产生的表面态ZnOH*反应得到新的表面态Mg(C5H5)*;将表面态Mg(C5H5)*与通入的前驱体H2O反应获得MgOH*,将MgZnO薄膜表面喷Pt(3nm)处理之后通过EDS能谱分析来进行薄膜的成分的定性及定量分析,可得薄膜的组分。
声明:
“原子层沉积MgZnO薄膜及其研究方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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