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2.5-10um谱段高透低应力薄膜及其制备方法

799   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:45:48
本发明公开一种2.5-10um谱段高透低应力薄膜，所述薄膜为镀制在多光谱硫化锌表面的HfON薄膜，所述薄膜制备方法为：一、对多光谱硫化锌基片分别采用去离子水冲洗、分析纯丙酮超声清洗和分析纯无水乙醇超声清洗，然后将基片表面擦净；二、在真空室内安装铪靶，然后安装多光谱硫化锌基片，铪靶和多光谱硫化锌基片之间设置挡板；三、将真空室抽真空至3.0×10-3～5.0×10-3Pa，并将基片加热到150～200℃；四、利用等离子体轰击清洗铪靶10～15分钟；五、离子轰击清洗铪靶后，打开挡板，采用离子束反应技术，并通入氮气和氧气，制备HfON薄膜。本发明为基底材料提供良好的物理、化学及红外光学性能的保护薄膜。
声明：
“2.5-10um谱段高透低应力薄膜及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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