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水洞三维流场PIV测试用示踪粒子及其制备方法

763   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:25:17
本发明公开了一种水洞三维流场PIV测试用示踪粒子及其制备方法，首先采用种子溶胀法制备微米级的芯核(1)，然后对芯核(1)进行表面除油和敏化预处理，再进行化学镀银的包覆方法进行金属化处理提高光散射强度，最后用硅烷偶联剂进行表面改性处理来改善粒子的分散性能，得到水洞三维流场－PIV示踪粒子。经本发明方法制得的水洞三维流场－PIV示踪粒子剖面结构为中心是芯核(1)，芯核(1)与表面改性层(3)之间是金属银包覆层(2)。其平均粒度为3μm～22μm、密度为1.1g/cm3～1.4g/cm3，且具有窄的粒度分布，较好的流场跟随性和高的光散射强度。
声明：
“水洞三维流场PIV测试用示踪粒子及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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