本发明提供一种包含抛光层(10)的化学机械抛光垫,该抛光层(10)包含疏水区(30)、亲水区(40)及终点检测口(20)。该疏水区实质上与该终点检测口(80)相邻。该疏水区(30)包含具有表面能为34MN/M或更小的聚合材料及具有表面能超过34MN/M的聚合材料。本发明进一步提供一种抛光基材的方法,包括使用该抛光垫。
声明:
“包含疏水区及终点检测口的抛光垫” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)