工作原理:
通过下照式C型腔体设计,利用X射线穿透样品时因涂镀层厚度差异导致的能量衰减变化,结合EFP核心算法与多道脉冲分析系统,精准解析涂层成分及厚度数据。
应用范围:
广泛应用于制造业质量管控领域。
产品技术参数:
仪器尺寸为550mm×480mm×470mm,重量45kg,配备500mm×360mm×215mm样品腔及50mm×50mm XY轴工作台,承重达5kg。
产品特点:
高精度多元素分析:支持轻元素、重复镀层及同种元素不同层的成分解析,如钕铁硼磁铁的Ni/Cu/Ni/FeNdB镀层检测;
灵活测量能力:微焦X射线装置可聚焦至0.002mm²区域,变焦结构适配凹槽深度0-30mm的复杂工件;
高效操作体验:高精密微型滑轨实现XY轴0.005mm级定位精度,结合快速对焦系统,单点测试仅需数秒即可稳定输出数据。