本发明公开了一种电致化学抛光装置及其工作方法,所述的装置包括隔振光学平台、线型滑台、电极系统、基准平晶、真空陶瓷吸盘、调平基板、微分测头和压电陶瓷偏转台。本发明采用粗调和精调相结合,调平精度高、范围大,可以对不同厚度的材料进行抛光;本发明使用柔性波纹管传递扭矩,降低了由于电极转动受力不均对下方液膜厚度均一性造成的影响,此外,柔性波纹管还可以减缓与减速电机和线型滑台相连的保持架上装配结构引起的振动对下端电极的影响,可以显著提高抛光工件的质量;本发明采用直线轴承和导向轴代替传统技术中的拨叉结构,可以极大地减小电极系统与其他部件的摩擦力,避免了电极在转动过程中导致贵重电极与工件划擦而损坏的技术难题。
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