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化学机械抛光液

855   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:02:30
本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有水、比表面积(用BET比表面积测试法测得)范围为120～300m2/g的研磨剂、质量百分比为0.1～0.2％的能产生银离子的化合物、质量百分比为0.1～0.3％能产生硫酸根离子的化合物和过氧化物。本发明的抛光液在保证非常高的钨的抛光速度的同时，通过优化研磨剂的比表面积的范围，银离子的质量百分比和硫酸根离子的质量百分比，从而显著降低抛光液在硅片表面的残留颗粒和降低抛光液的生产成本。
声明：
“化学机械抛光液” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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