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化学机械抛光系统及其方法

717   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:00:52
化学机械平面化装置包括台板、晶片托臂、托架组件、调节臂、和端操纵装置。通过以最小需要的输送速率提供抛光剂确保了不变的晶片平面化,使浆料输送系统降低了浪费。浆料输送系统包括检查阀、隔膜泵、检查阀、背压阀和分配杆。隔膜泵在每个抽运周期提供精确的抛光剂体积,与输入压力无关。检查阀防止抛光剂反向流过隔膜泵。背压阀在检查阀上产生压力差,以防止在隔膜泵的回程期间抛光剂的流动。抛光剂从分配杆分配到抛光介质。
声明：
“化学机械抛光系统及其方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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