本发明涉及化学褪镍药水技术领域,特别是涉及一种用于电镀镍抗蚀层的褪镍药水及制备方法、化学褪镍工艺,所述褪镍药水含有:50~350g/L的硝酸溶液、5~30g/L的双氧水溶液、1~10g/L的苯磺酸、2~12g/L的尿素、0.5~4g/L的阴离子表面活性剂、1~10g/L的咪唑类杂环及其衍生物,余量为水。本发明解决现有技术中传统化学褪镍药水体系的使用温度高、速度慢及褪除工艺复杂的问题。上述褪镍药水在处理含电镀镍抗蚀层的线路板时,控制褪镍药水温度在20~40℃范围即可快速、有效褪除铜金属表面的电镀镍层,露出光亮无印迹的金属铜线路层,满足后续自动光学检测(AOI)工序对铜面表观和光亮度要求。
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“用于电镀镍抗蚀层的褪镍药水及制备方法、化学褪镍工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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