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含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法

836   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:54:49
本发明提供了一种含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法。所述的含有铋和卤素的半导体材料，其特征在于，其化学式为Cs3Bi2BrxI9?x，其中，x＝1?6.85。本发明的通式为Cs3Bi2BrxI9?x的半导体材料，具有可调节的直接带隙能，在本发明的实施例中最小可调节至1.99eV，低于现有材料Cs3Bi2Br9或Cs3Bi2I9的带隙能，能够吸收可见光谱中更宽的波长范围。
声明：
“含有铋和卤素的半导体材料及其制备与分析方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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