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具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物

945   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:45:15
本发明提供了一种用来对半导体基板上的二氧化硅和氮化硅进行抛光的组合物的制备方法。该方法包括:对羧酸聚合物进行离子交换以减少氨;将0.01-5重量%离子交换的羧酸聚合物与以下组分混合起来:0.001-1重量%的季铵化合物、0.001-1重量%的邻苯二甲酸及其盐、0.01-5重量%的磨料和余量的水。
声明：
“具有改进的终点检测能力、用来对二氧化硅和氮化硅进行化学机械抛光的组合物” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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