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涉及基于频率分析监视的化学机械抛光处理

754   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:35:13
本发明提供一种监视化学机械抛光处理的方法,包含以下步骤:自化学机械抛光处理接收实时数据信号,其中所述实时数据信号与摩擦力、力矩、马达电流有关;将该数据信号转换成一不同频率的信号的功率频谱,其中各频率总和等于该原始数据信号;识别并监视该功率频谱的对应于所述化学机械抛光处理的信号成分;检测该信号成分的振幅或频率的变化;及改变所述化学机械抛光处理以响应所检测的变化。本发明也提供一种完成上述方法的装置。
声明：
“涉及基于频率分析监视的化学机械抛光处理” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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