本发明涉及一种化学传感器,其具有包括活性层状纳米材料的多条纳米带的基材和用于当与物质接触时测量所述多条纳米带中的至少一部分纳米带的电或物理特性的变化的物质检测部件。本发明还涉及一种使用化学传感器检测物质的方法以及一种用于构造基材以便于通过化学传感器进行化学检测的方法。
本发明涉及一种包括标识和验证阶段的方法,包括物体的理论标识、物体的光谱分析、确定用作标准的标记物、比较关于在光谱分析期间获得的所述标准标记物的数据和以前存储的所述特定数据、计算要实行分析的校正、检测标记物的有无和强度、确定验证物体的代码以及根据情况发出确认信号或警告信号。
本发明涉及电化学反应装置。提供能够抑制二氧化碳的还原生成物的生成量、组成由于反应部的温度变化而随时间变动的电化学反应装置。电化学反应装置具备:具有第一容纳部和第二容纳部的第一反应部,上述第一容纳部用于容纳包含二氧化碳的气体或包含二氧化碳的第一电解液,上述第二容纳部用于容纳包含水的第二电解液;配置于第一容纳部、将二氧化碳还原以生成还原生成物的阴极;配置于第二容纳部、将水氧化以生成氧化生成物的阳极;调节第一容纳部内的压力的第一压力调节部;检测第一反应部的温度的温度检测部;和基于温度检测部的检测信号来控制压力调节部的控制部。
本发明公开了用于电化学分析的电极,以确定待选药物是否通过氧化性药物代谢酶(DME)代谢。在第一类型电极中,DME固定在电极表面。在第二种类型的电极中,电极的表面经共价或非共价加入化学基团修饰,从而使得电子从电极向溶液中的DME有效迁移。本发明描述了该电极在电化学分析中的用途,及包含该电极的电化学反应容器。
公开了包括C-C双键的新颖化合物,在该双键的一个碳原子取代了两个含硫原子的基团。该化合物用于通过与过氧化物酶和过氧化物的反应,快速产生化学发光的方法和组合物。在过氧化物酶和过氧化物产生的酶的测定中,和在采用酶标记特定结合对的测定中,这样产生的化学发光可以用作可检测的信号。
本发明的课题在于提供简便且准确地检测餐具或衣物或者设备的清洗或刷洗时残留的洗涤剂(表面活性剂)的方法、可用于刷洗状况的确认的方法及检查用具,其特征在于,由通过由检查对象物与由乙二酸酯、荧光物质、过氧化氢和强酸形成的组合物(检查试剂)的接触产生的化学发光现象来简单地检测附着于检查对象物表面的残留洗涤剂的方法以及适合于装入所述检查试剂的检查用具构成。
本发明涉及一种电化学活性粉末,该电化学活性粉末包括包含由式AaMm(XO4)n表示的化合物的颗粒,其中A包括碱金属;M包括至少一种过渡金属并且任选地包括至少一种非过渡金属;并且X选自S、P和Si;其中0< a≤3.2;1≤m≤2;并且1≤n≤3;其中所述颗粒至少部分地涂覆有包含含碳材料的层,所述含碳材料包括高度有序的石墨,其中所述高度有序的石墨具有至多3.05的峰值强度比率(I1360/I1580),该比率是通过拉曼光谱分析得到的1360cm-1处的峰值强度(I1360)与1580cm-1处的峰值强度(I1580)的比率。
一种化学放大型正性抗蚀剂组合物,包括酚醛清漆树脂、在碱性水溶液中本身不可溶或可溶性差但是在碱性水溶液中通过酸的作用而变得可溶的树脂,和酸生成剂,其中当酚醛清漆树脂通过凝胶渗透色谱(GPC)利用254nm UV检测器、以聚苯乙烯作标准物进行测试时,基于除了未反应单体之外的总图案面积计,分子量为1000或更小的组分的面积比为25%或更小。该化学放大型正性抗蚀剂组合物在不恶化基本性能例如灵敏度、分辨率等的情况下能够降低费用,并且由于驻波引起的不均匀性小,能够改善图案轮廓、特别是线边缘粗糙度。
检测多个反应器中至少一反应器(3)内化学或生化反应发出光的光谱的装置。各反应器(3)包括具有可射出光的发光区的容纳部。装置包括具有各容器(3)的光可透出的小孔(6)阵列的遮挡单元(5)。多个光波导(7)将光从遮挡单元(5)的小孔引到散光设备(8),将来自各波导(7)的光分散成色散光谱。光检测设备基本同时检测色散光谱的光谱。一实施例中小孔(6)基本比反应器发光区小,光波导(7)直径从其第一端渐细,第一端直径与反应器容纳部顶部区域相近从而光波导第二端直径小于第一端。一替换实施例中不用光导,来自各小孔的光被笔直引到散光设备。又一实施例中各反应器有第二波导,各波导将光引到不同检测器检测特定光谱。
本发明公开了一种提供对化学制造工艺中性质的矫正的估计方法。该法用在线分析仪上获得的数据,经数学转换后得到的计算值或其它增量回归工艺变量。也公开了使用该方法的化学制造工艺。
本发明提供了能和磷酸酶反应产生化学发光的新的杂环化合物及其制备工艺和在其中有用的中间体。该化合物包括一个含有N,O或者S的并带有一个外向环的碳-碳双键的杂环系统。该双键的远侧碳末端被磷酸基和含有一个O或者S原子的基团取代。本发明还提供了新的组合物,其除了含有该杂环磷酸酯化合物外,还含有一种阳离子芳香族化合物(CAC)。而在该组合物中加入AC可大大地增加化学发光的产生并改善检测灵敏度。而那些还含有阴离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂的组合物则可进一步改善检测灵敏度。该新的化学发光化合物和组合物可应用于发光的方法中,磷酸酶和酶抑制剂的检测中以及那些用酶标记的特异结合对的检测中。
一种用来把化学产物分配到多个使用点的分配系统,其利用一个多通阀选择性地把来自一个混合设备的使用的稀释物分配到选择的使用点。该多通阀利用一个位置传感器,通过检测一个转子相对于该阀中一个定子的角位置,提供确定的证实输送。该位置传感器包括相对环形排列的可检测元件和邻近检测器,邻近检测器响应转子的转动彼此相对着绕一个公共轴转动,从而使可检测元件定位,在每一个预定角位置处接近于一种唯一的邻近检测器组合。
提供用于跟踪包装在整个运送过程中所暴露的包括异味在内的所有化学品的系统和方法。装置附接至所述包装或置于所述包装内,以将周围环境中的化学品提取到所述装置。所述装置可提取并浓缩所述装置和相应包装在整个所述运送过程中所暴露的挥发性化学品、半挥发性化学品和非挥发性化学品。然后可将所提取的化学品从所述装置中解吸并且通过分析仪器方法进行分析。
一种电化学电极试片及其制造方法,利用具有氧化还原活性物质与检体中特定待测物质发生专一性生化或化学的氧化还原反应而产生电子转移,配合感测器装置检测出待测物浓度的电化学电极试片,电极试片至少包括传递专一性生化或化学的氧化还原反应中所产生的电子转移效应的电极部分、反应膜层、位于生物反应层上方的检体承载空间以及上盖保护板。其中该检体承载空间具有三个开口。
一种半导体晶圆处理及分析装置(20)包括一在其内紧密接收半导体晶圆(27)的处理微腔室(22)。可打开该腔室供装载与移除半导体晶圆,且接着将其关闭用于晶圆的处理,其中将化学试剂及其它流体引入该腔室。将小间隙提供于上表面、下表面与晶圆的周边边缘及处理腔室的对应部分之间。提供高速收集系统以自腔室收集及移除用过的试剂及流体用于在线或离线分析或用于废物处理。
本发明公开了用于热控制光刻化学工艺的系统、装置和方法。热控制系统包括包含多个热传感器元件的多区带热感应单元。这些热元件被配置用于检测衬底上多个预定义区带的温度。该系统还包括包含多个热耦元件的多区带热调整单元,这些热耦元件被配置用于调整预定义区带的温度。该系统还包括可操作地并且可通信地耦合到多区带热感应单元和多区带热调整单元的热控制器单元。热控制器单元接收来自多区带热感应单元的检测温度,处理所检测的温度信息,基于经处理的温度信息生成温度控制信息,并将温度控制信息传输到多区带热调整单元以调整预定义区带的温度。
公开了一种在化学机械抛光处理中用于端点触发的发明。在具有端点检测部件的抛光带下方布置传感器阵列,其中该端点检测部件可以是一个端点窗口、抛光带中的孔、或抛光带的透明部分。然后在CMP处理过程中转动抛光带,并根据传感器阵列被抛光带特定部分覆盖的部分确定端点检测部件的横向位置。抛光带的特定部分可以是端点窗口、触发缝隙、或抛光带被反射材料覆盖的部分。该传感器阵列可以选择充电耦合装置(CCD)或传感器的线性阵列。在操作中,根据哪些传感器被抛光带的特定部分覆盖来确定位置信息。然后该位置信息被传递到带操纵系统,该带操纵系统根据哪些传感器被抛光带的特定部分覆盖来修正端点窗口的横向位置。
一种用于处理基板的装置包括:壳体,具有处理基板的处理空间;支撑单元,在处理空间中支撑基板;喷嘴,将化学物质分配到基板上;化学物质供应单元,将化学物质供应到喷嘴;以及控制器,控制化学物质供应单元。化学物质供应单元包括:罐,具有储存化学物质的内部空间;传感器,检测储存在罐中的化学物质的剩余量;入口管线,将化学物质从化学物质供应源供应到罐;出口管线,将化学物质从罐供应到喷嘴;以及排放管线,排出罐中的化学物质。在化学物质保留在罐中的状态下,当由传感器检测到的剩余量达到第一预设量或更少时,控制器控制化学物质供应单元将新的化学物质从化学物质供应源供应到罐。
本发明提供了一种用于制备化合物或产物的方法,所述化合物或产物具有满足或超出用户规范的一个或多个特征,所述工艺流程包括选择化学输入的第一组合的步骤,可选地和物理输入一起,并将那些输入供应给反应空间,从而生成第一产物;分析所生成的产物的一个或多个特征;将所述一个或多个特征与用户规范对比;使用遗传算法选择化学输入的第二组合,可选地与物理输入一起,其中所述第二组合不同于第一组合,并将那些输入供应给反应空间,从而生成第二产物;分析所生成的第二产物的一个或多个特征;将所生成的一个或多个特征与所述用户规范对比;对于化学和/或物理输入的进一步的单独组合重复选择和分析步骤,以提供产物阵列,其中,所述流动化学系统连续操作以提供第一、第二和进一步的产物,从而确定满足或超出用户规范的一种或多种产物。
一种生物相容性医疗装置可以包含电化学传感器,所述电化学传感器包含:公共参比电极;至少一个对电极;以及工作电极平台,所述工作电极平台包括多个相应工作电极,每个相应工作电极电耦接到所述公共参比电极并且包括相应试剂底物,所述相应试剂底物被配置成与相应分析物反应以产生指示所述相应分析物的浓度的相应信号;以及处理电路系统,所述处理电路系统操作性地耦接到所述电化学传感器并且被配置成:从所述电化学传感器接收来自所述多个相应工作电极的多个信号;标识与相应所选工作电极相对应的相应信号;并且处理经过标识的信号以确定与所述相应所选工作电极相关联的所述相应分析物的浓度。
本发明揭露一种检测试片及其制造方法、检测装置,检测试片用以检测检体中生化成分的含量,其包括绝缘基板;电极层,设置于绝缘基板上,电极层包括互不相连的阳极及阴极部分,阳极部分的两端形成工作电极及阳极接头,阴极部分的两端分别形成参考电极及阴极接头;反应层位于电极层上,与检体接触产生化学反应,反应层覆盖工作及参考电极,并与其个别互相连接;及放大电路,形成于绝缘基板上,且放大电路电性耦接于工作电极与阳极接头之间,用以放大工作电极输出的由化学反应产生的电子信号。本发明可提高检测试片前端的信号杂讯比,省略检测装置的信号处理装置的放大电路,以达到简化检测装置的信号处理装置的系统架构和整体成本。
一种研磨垫轮廓的控制系统,适于包括研磨垫、研磨台、研磨头以及调节器的一化学机械研磨装置,其中研磨垫包含一透光区。而这种控制系统包括至少一光源、一检测器以及一处理器。而光源设置于研磨台中,且对应于研磨垫的透光区。检测器则位于研磨垫上方,以检测通过研磨垫的透光区的光源所发出的光。处理器根据检测器所检测的结果,来估算研磨垫的厚度,以判定研磨垫的轮廓状况,进而发出一处理讯号至调节器,借以调整调节器的处理程序。由于本发明能在线控制研磨垫轮廓,所以可降低关于晶圆内不均匀度的变量而获致平坦的研磨垫轮廓。
本发明涉及一种电子集成电路,所述电子集成电路包括固定于衬底(3)上的电子芯片(1),其组件受外壳保护,所述电子芯片设置有与布置在所述衬底上的连接焊盘(6)连接的输入/输出接线柱(2),其中所述电路还设置有至少一个侵入检测装置(9、10),所述至少一个侵入检测装置(9、10)能够检测所述外壳内部的机械和/或化学侵入和/或接近所述集成电路的敏感区的尝试,其特征在于,所述侵入检测装置(9、10)包括检测电路(9),所述检测电路(9)被嵌入在衬底(3)中和/或放置在衬底(3)上并且被布置成在所述集成电路的一些敏感区紧邻的附近经过,从而对接近任何所述敏感区的任何尝试都造成所述检测电路(9)的电状态(闭合/断开)的变化。
一种化学液体注射装置(100),其中在安装于注射控制单元(101)上的较大且分辨率高的主触摸面板(104)上,输入并显示有关正常注射的各种数据,从而可以准确地实行有关正常注射的复杂输入操作和数据显示。由于可以在安装于注射头(110)上的较小且分辨率低的副触摸面板(118)上输入并显示关于测试注射的各种数据,所以,在单独一个操作者在注射头(110)附近监视延长管(230)的同时,可以容易地实现有关测试注射的输入操作和数据检查。于是,可以提供一种能够使单独操作者容易且安全地实行测试注射的化学液体注射装置(100)。
本公开的前提是:本公开的发明人出乎意料地观察到,附着有基于石墨烯‑聚吡咯的纳米复合材料的电极能显著改进电极的电导率,这进而能显著改进电化学装置的检测限(LOD),使得样品中的生物靶标的定量检测能达到0.5fg/mL之多。因此,本公开的一个方面涉及用于电化学装置的改进的电极,该电化学装置能够检测样品中的生物靶标,其中电极表面的至少一部分附着有基于石墨烯‑聚吡咯的复合材料,且其中该基于石墨烯‑聚吡咯的复合材料附着有至少一个生物靶向部分。本公开的一些方面还提供了本发明的有利电极的制造方法、包括该有利电极的电化学装置以及检测生物靶标的方法。
本发明涉及使用电化学传感器(1)的蛋白质的电流检测,特别是粪便中的血红蛋白。该电化学传感器包括:具有导电基质的工作电极(2a,2b),所述导电基质含有第一试剂和/或第二试剂,所述第二试剂是第一试剂的氧化剂或其前体;对电极(4)和可选的参比电极(3);其中所述第一试剂与氧化剂的反应是可通过蛋白质催化的,以在所述工作电极提供可检测信号。所述导电基质是含有导电的碳或石墨的基质或多孔导电基质;第一试剂优选为3,3’,5,5’-四甲基联苯胺(CAS?RN=54827-17-7),而第二试剂是过氧化氢,或者是诸如过氧化脲(CAS?RN=124-43-6),过硼酸钠的前体。还要求了用于测试粪便的试剂盒,包括传感器,以及制备工作电极的方法。
本发明涉及电化学反应装置和有价物质制造系统。提供抑制生成气体中的CO2气体浓度的变动、提高对于变动性电源等的鲁棒性的电化学反应装置。实施方式的电化学反应装置(1)具备:电化学反应单元(8),其具有用于容纳二氧化碳的第一容纳部(2)、用于容纳包含水的电解液或水蒸气的第二容纳部(3)、在第一容纳部(2)与第二容纳部(3)之间设置的隔膜(4)、配置于第一容纳部(2)的还原电极(6)、和配置于第二容纳部(3)的氧化电极(7);检测电化学反应单元(8)的反应量的检测部(10);调节供给至第一容纳部(2)的二氧化碳的量的调节部(11);和基于检测部(10)的检测信号来控制调节部(11)的控制部。
一种用于提供CMP系统中的制程控制的系统和方法,其使用用于修整晶片研磨垫的真空辅助设备,从而来自修整制程的流出物(即晶片碎屑、研磨浆、化学或其它副产物)从废流中转移开,而引入分析模块,进行进一步的处理。所述分析模块用于确定所述流出物内的至少一个参数,且基于分析来产生制程控制信号。所述制程控制信号然后反馈到平面化制程,以允许多种参数例如研磨浆的成分、温度、流速等的控制。所述控制信号还可用于控制制程和/或确定所述平面化制程自身的终点。
本发明涉及用于质谱的低压电子电离和化学电离,提供了一种通过化学电离电离样品的方法。具体地,通过将样品和反应剂气体流入处于低于0.1Torr的压力下的离子源,通过化学电离电离样品。在将所述离子源保持在低于0.1Torr的压力下的同时,通过电子电离在所述离子源中电离所述反应剂气体,以产生反应剂离子。使得所述样品与所述反应剂离子在低于0.1Torr的压力下反应,以产生所述样品的产物离子。将所述产物离子发送到离子阱中,用于质量分析。
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