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氧化钇靶材

氧化钇靶材

浏览量 214
规格/型号:暂无
品牌:科泰
应用领域:材料
产地:江西 - 南昌
厂家/供应商:江西科泰新材料有限公司
咨询电话::19170716858(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2026-07-14
级别:待认证

氧化钇靶材说明介绍

氧化钇靶材

氧化钇靶材(Y2O3)基本信息

分子式:Y2O3

纯度:99.99%

CAS号:1314-36-9
摩尔质量:225.81

密度:2690 °C

熔点:4300 °C

沸点:4300 °C

溶解性(水):不溶于水

氧化钇靶材(Y2O3)产品概况

本靶材由超高纯钇锭(≥99.995%)经 等离子体氧化+热压烧结(HP)+热等静压(HIP) 三级工艺制备的 极限功能陶瓷薄膜材料。

核心特性:

•亚纳米晶粒结构(晶粒尺寸 50-200nm,<111>择优取向度>90%)

•极端致密化(相对密度 >99.98%,闭孔率 <0.005vol%)

•超低缺陷浓度(氧空位 <10¹⁵cm⁻³,金属杂质 <0.1ppm)

•溅射稳定性(电弧事件 <1次/kh,适用于HiPIMS超薄膜沉积)

在反应溅射中实现 膜层介电常数k=14±0.2(比传统SiO₂介质 提升200%绝缘性能),1700℃工况下氧化速率 <0.001mg/cm²·h。

核心价值源于钇基氧化物的物理极限突破

➊ 量子级介电性能

·等效氧化物厚度(EOT)0.42nm(电流 <10-°A/cm'@1MV/cm)

·介电损耗 tan8<0.0001(@10GHz,毫米波芯片关键指标)

➋ 抗极端环境损伤

·抗等离子体蚀刻速率 <0.05nm/min(CF/0,刻蚀气体)

·耐中子辐照能力 >100dpa(位移损伤阈值)

➌ 跨尺度工艺兼容

·原子层沉积(ALD)成膜速率 >1.2nm/循环(前驱体吸附能 0.35eV)

·EUV光刻反射镜多层膜(13.5nm反射率 >75%)

氧化钇靶材(Y2O3)产品应用

主导应用场景与性能突破

◉ 先进半导体制造

▸ 3nm以下节点高k栅介质(EOT 0.4nm,栅极漏电降低10⁵倍)

▸ DRAM电容介电层(介电常数k=32,存储密度突破128Gb)

◉ 大科学装置核心部件

▸ 聚变堆第一壁防护涂层(抗氢氦辐照起泡 >10²²ions/m²)

▸ 同步辐射光束线反射镜(表面粗糙度 <0.2nm RMS)

◉ 超精密光学系统

▸ EUV光刻机多层膜反射镜(热变形 <5μrad@1kW/cm²)

▸ 深紫外激光窗口(透过率 >90%@193nm)

◉ 核医学诊疗设备

▸ 质子治疗靶室防辐射内衬(次级辐射产额降低50倍)

▸ 放射性同位素钇-90靶材(核纯度 >99.9999%)
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