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单点膜厚测试仪

单点膜厚测试仪

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规格/型号:F3
品牌:纳腾
应用领域:检测设备
产地:上海 - 上海
厂家/供应商:上海纳腾仪器有限公司
咨询电话::02164283335(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2025-07-08
级别:待认证

单点膜厚测试仪说明介绍

F3单点膜厚测试仪

F3单点膜厚测试仪


KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量,其测量范围从nm-mm,可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量,被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品,可测量从几mm到450mm大小的样品,薄膜厚度测量范围1nm到mm级。F3-sX可测试众多半导体及电介质层的厚度,可测大厚度达3毫米。F3-sX系列配置10微米的测试光斑直径,因而可以快速容易的测量其他膜厚测试仪器不能测量的材料膜层。

测量原理-光谱反射

光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质,半导体,和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光,它忽略偏振效应(绝大多数薄膜都是旋转对称)。因为不涉及多种移动设备,光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首选,而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间,两种技术都可用。

一、主要功能

主要应用

测量较厚薄膜厚度、折射率、反射率和穿透率:

技术能力

光谱波长范围:380-1580nm

厚度测量范围:10nm-3mm

测量n&k小厚度:50nm

准确度:取较大值,50nm或0.2%

精度:5nm

稳定性:5nm

光斑大小:10µm

样品尺寸:直径从1mm到300mm或更大

二、应用

半导体薄膜:光刻胶、工艺薄膜、介电材料

液晶显示:OLED、玻璃厚度、ITO

光学镀膜:硬涂层厚度、减反涂层

高分子薄膜:PI、PC

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