江苏有色金属材料

PEG化金纳米棒 （长径比 3.2）羧基末端 626     

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货号CAS号编号包装参数1017307440-57-5XFJ89-610mL吸收峰：725±20nm,长径比：3.2产品名称中文名称：PEG化金纳米棒英文名称：PEGmodifiedAunanorod

PEG化球形金纳米颗粒 60nm 844     

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货号CAS号编号包装参数1017107440-57-5XFJ88-610mL直径：60nm质量浓度：50μg/ml溶剂：水产品名称中文名称:PEG化球形金纳米颗粒英文名称：PEGmodifiedAuN

单层氮化硼薄膜（HBN）铜基 766     

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货号CAS号编号包装参数1023567440-42-8XF2381片1英寸x1英寸,铜基1023577440-42-8XF2381片2英寸x2英寸,铜基1023587440-42-8XF2381片1英

电池用三氧化二铁 1003     

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电池用纳米氧化铁概要氧化铁主要采用独特的合成技术和高纯的原料生产，具有纯度高，杂质含量低，粒径小，粒度均匀、耐高温（600℃不变色）、分散性好等优点，目前已广泛使用在磷酸铁锂电池中。性能指标项目指标型

纳米氧化镁粉体 1136     

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产品名称中文名称:纳米氧化镁粉体英文名称：MagnesiumOxideNanoparticles性质形态：白色粉末参数纯度：98%粒径：20nm比表面积：42.05m2/g应用NA详情请邮件至：sal

吉致电子JEEZ铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry 2890     

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无锡吉致电子25年研发生产——铝合金抛光液/铝合金slurry/铝合金悬浮液/铝合金抛光液抛光浆料Slurry/铝合金CMP抛光液/铝合金化学机械抛光液/铝合金lapping研磨抛光液/铝合金化学机械抛光液Slurry/铝合金CMP集成电路抛光液/JEEZ铝合金抛光液

阻尼布抛光垫 1565     

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吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优势。

碳化硅抛光垫 1471     

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吉致电子抛光垫满足低、中及高硬度材料抛光需求，针对碳化硅SIC抛光的4道工艺制程搭配不同型号抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性价比等优点。

钨抛光液 1302     

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吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料，抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特点.

吉致电子SiC碳化硅衬底研磨抛光产品 2311     

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吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫（粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫）。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量，同时大大提高材料去除率。

吉致电子JEEZ陶瓷抛光液 CMP纳米级抛光液 2287     

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吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光，通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果，表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。

吉致电子JEEZ铜抛光液/合金铜抛光液/铜表面抛光液/金属研磨液/镜面抛光液 2258     

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合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。

吉致电子JEEZ钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液 2416     

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金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。

氧化锆陶瓷件 1380     

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氧化锆陶瓷件-异形应用领域：超细研磨设备、精细化工、电子浆料、半导体、新能源、纳米新材料、医疗器械、精密铸造，结构陶瓷，耐火材料，电子通讯，敏感陶瓷，石油化工，航空航天，机械制造，光纤连接器，电池材料

氧化锆陶瓷件 1359     

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应用领域：超细研磨设备、精细化工、电子浆料、半导体、新能源、纳米新材料、医疗器械、精密铸造，结构陶瓷，耐火材料，电子通讯，敏感陶瓷，石油化工，航空航天，机械制造，光纤连接器，电池材料等各个高精端领域。

增韧氧化锆陶瓷磨介 701     

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应用领域： u3000u3000我公司生产的增韧氧化锆陶瓷磨介（简称“TZP锆珠”）选用亚纳米级原料，用先进的工艺制成，各项技术指标及性能达到国际先进水平，具有极强竞争力的性价比会为您创造看得见的附加价值。主要应用于

氧化锆陶瓷件-陶瓷薄片 709     

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应用领域：超细研磨设备、精细化工、电子浆料、半导体、新能源、纳米新材料、医疗器械、精密铸造，结构陶瓷，耐火材料，电子通讯，敏感陶瓷，石油化工，航空航天，机械制造，光纤连接器，电池材料等各个高精端领域。

氧化锆陶瓷件-研磨罐 943     

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氧化锆陶瓷件-研磨罐应用领域：超细研磨设备、精细化工、电子浆料、半导体、新能源、纳米新材料、医疗器械、精密铸造，结构陶瓷，耐火材料，电子通讯，敏感陶瓷，石油化工，航空航天，机械制造，光纤连接器，电池材

氧化锆球 1153     

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65氧化锆球应用领域：Applications：非金属矿、油漆、颜料、油墨、染料、农药、医药、荧光增白剂、抛光材料等中、低粘度浆料物料分散和研磨，以其优良的耐磨性和价格比氧化锆珠便宜而被普遍的使用。n

氧化锆陶瓷件-柱塞 887     

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氧化锆陶瓷件-柱塞应用领域：医疗柱塞泵、高压水泵、高压注射机、高压水切割机、锂电池泵、计量泵。精细化工、电子浆料、半导体、新能源、纳米新材料、医疗器械、精密铸造，结构陶瓷，耐火材料，电子通讯，敏感陶瓷

氧化锆陶瓷件-精球 1141     

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氧化锆陶瓷球主要用作阀门球、全陶瓷轴承、测量球、轨迹球、精细研磨球，可以用于高温、耐腐蚀、绝缘、绝磁、无润滑等场合，是腐蚀场合下替代钢球的理想材料。作为阀门球用途，氧化锆陶瓷球目前已经成功用于高压均质

氧化锆陶瓷件 804     

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应用领域：超细研磨设备、精细化工、电子浆料、半导体、新能源、纳米新材料、医疗器械、精密铸造，结构陶瓷，耐火材料，电子通讯，敏感陶瓷，石油化工，航空航天，机械制造，光纤连接器，电池材料等各个高精端领域。

增韧氧化锆陶瓷磨介 533     

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应用领域： 我公司生产的增韧氧化锆珠（简称“TZP”锆珠）先用微米级及亚纳米级原料，用先进的工艺制成，各项技术指标及性能达到国际先进水平。主要应用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超细研磨及分散，

铈稳定氧化锆珠 825     

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应用领域： 我公司生产的铈稳定氧化锆珠先用微米级及亚纳米级原料，用先进的工艺制成，各项技术指标及性能达到国际先进水平。主要应用于要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超细研磨及分散，如：电子陶瓷、磁性材

研磨介质-氧化锆珠 1237     

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氧化锆珠是以微米级及亚纳米级氧化锆与氧化钇为原料制成的，用来对要求“零污染”及高粘度、高硬度物料的超细研磨及分散的一种研磨珠。氧化锆珠（简称“TZP”锆珠）先用微米级及亚纳米级原料，用良好的工艺制成。

陶瓷劈刀 1230     

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我公司位于江苏苏州和广东东莞两地。公司主营产品为陶瓷劈刀的研发生产制造，陶瓷劈刀(瓷嘴劈刀)广泛应用于半导体IC芯片封装，LED封装领域，是芯片键合工艺中的核心材料。我公司的陶瓷劈刀填补了国产陶瓷劈刀

氧化锆陶瓷件 1170     

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氧化锆陶瓷件应用领域：超细研磨设备、精细化工、电子浆料、半导体、新能源、纳米新材料、医疗器械、精密铸造，结构陶瓷，耐火材料，电子通讯，敏感陶瓷，石油化工，航空航天，机械制造，光纤连接器，电池材料等各个

钇稳定氧化锆珠 506     

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6.0稳定氧化锆珠可做规格为0.2mm-30mm适用机械：高转速快速搅拌磨，磨剥机，卧式砂磨机、慢式滚筒式球磨机等。适用行业：高档油漆油墨、涂料、高档色釉料、氢氧化镁、钛白粉，超细氧化锆、超细硅酸锆、

陶瓷劈刀 640     

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国产陶瓷劈刀,苏州陶瓷劈刀,武汉陶瓷瓷嘴公司主要从事于半导体键合工具的研发即陶瓷劈刀，陶瓷劈刀广泛用于半导体IC封装，LED封装，是封装制程中关键的核心工具。主要产品为提供芯片与外部系统的电器连接，提

高纯氧化铝研磨球 943     

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公司采用自有技术制备的氧化铝研磨球具有纯度高、硬度高、密度大、磨耗低、表面光滑、耐腐蚀等特点，是研磨釉料、坯料及各种粉末材料*理想的耐研磨介质，主要应用于高纯氧化铝的研磨，也可用于生产蓝宝石晶体生长。