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铝通孔芯片的去层方法

854   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:57
本发明提供一种铝通孔芯片的去层方法,该铝通孔芯片的去层方法包括如下步骤:S1:将芯片进行干法刻蚀,露出铝金属;S2:通过湿法刻蚀将铝金属反应掉,使和铝金属紧贴的阻挡层露出;S3:铝金属反应掉后,铝孔也会被反应,因此会在阻挡层上留下与下层金属连接的孔洞,该孔洞就是通孔的位置;S4:采集该层次的图像将金属线的信息和下层孔的信息全部进行采集。该铝通孔芯片的去层方法具有的优点如下:该方法可以很好地解决同层金属线不在同一水平面上,不同位置的金属线有一个高度的落差,且现有的加工方法会导致做失效分析或电路分析时,电路信息丢失的问题。
声明:
“铝通孔芯片的去层方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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