一种改进的真空镀膜设备,包括真空腔室、设置于所述真空腔室内的镀膜机构,所述真空腔室外连接有用于进行镀膜过程的供气机构和用于测量所述真空腔室内真空度的真空检测机构,所述真空检测机构包括真空计,所述真空计与所述真空腔室之间连通有检测管,所述检测管包括与所述真空腔室连通的水平段和一端与所述水平段连通而另一端与所述真空计连通的竖直段;所述水平段中部还设有滤尘通道,所述竖直段上还设有防尘装置。本实用新型结构紧凑、使用方便,有效阻止所述真空腔室产生的扬尘通过管道渗入进所述真空计中,避免所述真空计误判或失效,延长了所述真空计的使用寿命,降低运维成本,使设备正常运转。
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