本发明公开了一种离子注入机中通用可编程的离子束流骤变监测及响应系统,涉及半导体装备制造领域,尤其涉及离子注入机中对离子束流瞬态变化(Glitch)的监测与响应。此系统通过可编程的硬件架构,可快速准确地捕捉Glitch的发生,还可与离子注入机中的剂量控制系统协同作业,实现对Glitch做出微秒级别响应,以解决离子注入机中由于Glitch发生引起的工艺产品失效。
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