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光刻机对准性能的检测方法

716   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:06
本发明公开了一种光刻机对准性能的检测方法,包括提供待曝光晶圆;制作掩膜板,其具有长方形和迭对标记图案;通过光刻,将掩膜板的长方形及迭对标记图案转移到晶圆上;通过平移非完整曝光单元曝光布局的方法,测量完整曝光单元和非完整曝光单元之间迭对标记的中心偏移量,确定光刻机对非完整曝光单元对准补偿能力的失效边界,以此边界为基准,建立最敏感的检测曝光布局,从而建立更为全面和灵敏的光刻机对准性能的检测方法。
声明:
“光刻机对准性能的检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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