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蚀刻缺陷检测方法

825   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:03
本公开提供一种蚀刻缺陷检测方法，涉及半导体技术领域。该检测方法包括：提供衬底，衬底上依次形成有导电层以及介质层；对介质层进行蚀刻处理，以形成沟槽结构；以导电层作为阴极，采用电镀工艺在沟槽结构内填充电镀层，以形成待测产品；采用缺陷密度检测组件测试待测产品，以获取沟槽结构的顶视图像，根据顶视图像确定待测产品的蚀刻缺陷。本公开的蚀刻缺陷检测方法可提高缺陷识别准确率，防止电容因悬空而失效。
声明：
“蚀刻缺陷检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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