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检测半导体器件介质层可靠性的方法和装置

768   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 09:00:02
一种检测半导体器件介质层可靠性的方法和装置,其中,所述方法包括:基于斜坡电压测试和时间相关介质击穿测试的介质层击穿过程,确定介质层的斜坡击穿电压和时间相关介质击穿时间之间的转换关系;利用斜坡电压测试,测试一组样品的介质层的斜坡击穿电压Vbd1,Vbd2......Vbdn;利用韦伯分布对所述斜坡击穿电压Vbd1,Vbd2......Vbdn进行拟合;基于所述拟合结果,确定与预定斜坡电压击穿累积失效率对应的斜坡击穿电压;利用所述介质层的斜坡击穿电压和时间相关介质击穿时间之间的转换关系,将所述确定的斜坡击穿电压转换为时间相关介质击穿时间。本发明可以快速的进行半导体器件介质层可靠性评估。
声明：
“检测半导体器件介质层可靠性的方法和装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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