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检测缺陷残留的测试结构

939   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:59:59
本发明公开了一种检测缺陷残留的测试结构，通过第一测试区与第二测试区构成相互垂直的双向梳状的测试结构，并于两测试焊盘施加偏压用于对晶体管器件不同方向上的工艺造成的缺陷进行侦测，若侦测到某一晶体管有较低的击穿电压或较大的漏电，说明该测试区中晶体管存在缺陷残留，同时通过失效分析法找到缺陷残留位置并做相应的改善工艺，另外对于无缺陷残留的晶体管，对其测试时效性击穿特性一定程度上也可以评估绝缘层的寿命。
声明：
“检测缺陷残留的测试结构” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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