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分析聚变装置第一镜杂质沉积层厚度及其结构的方法

833   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:58:52
本发明公开了一种分析聚变装置第一镜杂质沉积层厚度及其结构的方法，本发明是一种无损检测第一镜表面杂质沉积层厚度及结构的方法，可以直观的显示杂质沉积层的成分信息，且样品无需预处理，实用性强。太赫兹波在等离子体及真空环境下传播损耗小，可以实现远距离原位在线诊断。本发明能够在磁约束聚变装置运行过程中原位分析第一镜表面杂质沉积、分布特点，有助于理解磁约束聚变装置运行过程中杂质灰尘沉积，氘氚燃料滞留等PSI问题。
声明：
“分析聚变装置第一镜杂质沉积层厚度及其结构的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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