本发明公开了一种弱荧光成像条件下的熔石英亚表面缺陷高分辨成像方法,包括构建一缺陷检测装置;连续激光束60°‑70°入射到样品表面,在离轴照明模式下,使样品的表面及亚表面缺陷在EMCCD中清晰成像。本发明针对样品亚表面的缺陷具有极低的荧光量子产额及传统成像CCD无法响应弱荧光的问题,确定其荧光缺陷的激发光谱以及发射光谱特性,在此基础上选择合适的激发波长光源及探测器,采用离轴照明模式,克服了同轴照明方式下杂散光严重干扰目标弱荧光信号,无法高分辨成像的问题;结合所测样品的透反率、菲涅尔反射、激光能量等因素,确定了最佳的入射角度,本发明可实现对熔石英光学元件快速、无损、高分辨、大面积成像检测。
声明:
“弱荧光成像条件下的熔石英亚表面缺陷高分辨成像方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)