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监测存储介质厚度异常的方法及装置

687   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:58:39
在本发明提供一种监测存储介质厚度异常的方法及装置，该方法包括：采集存储介质的实际光谱；将其与目标薄膜层对应的第一回归拟合模型中的第一拟合光谱进行拟合，获得每个第一拟合光谱与上述实际光谱的第一回归拟合优度；其中，第一回归拟合模型包括该存储介质中目标薄膜层的多个第一预设厚度值，以及每个第一预设厚度值对应的第一拟合光谱，第一回归拟合优度表征目标层对应的第一拟合光谱和实际光谱的相似程度；当最大的第一回归拟合优度小于第一阈值时，监测到所述存储介质的厚度异常。可见，该方案能够对存储介质的厚度异常，进行有效地、无损伤地、实时在线地监测，并将厚度异常的信号反馈给工艺部门，优化工艺控制。
声明：
“监测存储介质厚度异常的方法及装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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