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结构光调制的暗场显微缺陷三维测量装置与方法

1074   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:58:32
本发明公开了一种结构光调制的暗场显微缺陷三维测量装置与方法，所述三维测量装置包括光源、空间光调制器、第一透镜、分光镜、显微物镜、第二透镜、第三透镜、滤波器、第四透镜和CCD；所述空间光调制器用于接收光源发出的光并调制成结构光；所述空间光调制器调制的结构光依次经过第一透镜、分光镜和显微物镜微缩投影至样品上并在样品上反射形成零级光和一级光；所述零级光依次经过显微物镜、第二透镜和第三透镜达到滤波器；所述一级光依次经过显微物镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜到达CCD成像。本发明解决了现有无损检测方法存在照明背景光和离焦光干扰缺陷散射光成像的问题。
声明：
“结构光调制的暗场显微缺陷三维测量装置与方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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