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测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法

734   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:58:31
本发明公开了一种测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法，其特征在于：采用TE/TM线偏振光为入射光，入射角为被测掩模的闪耀角，分别测量标准反射片的反射光的光谱分布D0(λ)；被测掩模的反射衍射零级复色光的光谱分布D(λ)；采用比较法，计算出介质膜光栅掩模实际的反射衍射零级的光谱分布Rg(λ)，对其进行光谱反演，得到掩模的槽形参数：光刻胶的剩余厚度、槽深和占宽比。本发明实现了对于面积、重量均较大的待测掩模的槽形参数的无损检测；且可以避免测量系统的误差，对光谱仪测量系统以及光源没有特别要求，测量方法简单易行。
声明：
“测量光刻胶掩模槽形结构参数的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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