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监测晶片生长薄膜特性的装置及其用途

863   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:58:31
本发明公开了一种监测晶片生长薄膜特性的装置及其用途，属于半导体材料无损检测领域。该装置包括第一激光光源、第二激光光源、第一二相色镜、分束镜、第二二相色镜、第一探测器、第二探测器、位置探测器、腔室、狭缝窗口、样品托盘和转轴。该装置及其用途能够集成实现待测晶片反射率、温度和应力三个特性参数集成监测。
声明：
“监测晶片生长薄膜特性的装置及其用途” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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