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基于红外白光干涉技术的微结构形貌测试方法

622   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:58:27
本发明涉及微机电MEMS器件的微形貌测试,具体是一种基于红外白光干涉技术的微结构形貌测试方法,解决了现有测试技术无法对MEMS器件中深沟槽结构侧壁形貌进行测量的问题,以下列步骤实现:1)在待测侧壁表面进行阻止红外线透射的无损处理;2)以红外光源作为测量光源,红外光经透镜组调整为平行光束,经分光器件分成参考光束、检测光束,检测光束透射深沟槽结构的侧壁,经侧壁与无损处理的交界面反射后,与经参考镜面反射的参考光束相干迭加,形成干涉条纹图样;3)干涉条纹图样经光学透镜、CCD图像传感器传输至计算机,分析处理得所测侧壁的三维形貌图。本发明突破了现有测量技术无法实现深沟槽结构测量的缺点,应用领域广。
声明：
“基于红外白光干涉技术的微结构形貌测试方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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