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采用变温PL谱获取半导体材料杂质电离能的无损测量方法

891   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:57:58
一种采用变温PL谱获取半导体材料杂质电离能的无损测量方法，其是通过分析半导体材料变温PL谱谱峰强度随温度升高而下降的热淬灭行为，计算获得半导体材料的杂质电离能，具体方法包括：步骤1：测量待测半导体材料的变温PL谱；步骤2：通过谱峰拟合，获得待测半导体材料在不同温度下的热淬灭峰谱峰强度；步骤3：拟合热淬灭峰谱峰强度‑温度关系实验数据，获得半导体材料杂质电离能，包括施主杂质电离能和受主杂质电离能；步骤4：重复步骤1‑3，多次测量待测半导体材料的杂质电离能，采用最小二乘法，计算多次测量后的杂质电离能。本发明是利用无损的光谱解析技术，克服了现有测试手段复杂有损的技术缺点，不仅快速简便、精度高，而且对于测试材料无损。
声明：
“采用变温PL谱获取半导体材料杂质电离能的无损测量方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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