合肥金星智控科技股份有限公司
宣传

位置:中冶有色 >

有色技术频道 >

> 无损检测技术

> 用于无损检测半导体薄膜霍尔效应的基片及其制备方法

用于无损检测半导体薄膜霍尔效应的基片及其制备方法

743   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 08:57:50
本发明涉及半导体材料测量设备领域,具体涉及一种用于无损检测半导体薄膜霍尔效应的基片及其制备方法。本发明是在抛光基底上沉积图形化的绝缘膜层,之后在图形化区域内填充内电极、外电极及引线。当测试半导体薄膜霍尔效应时,内电极上表面与被测薄膜下表面形成欧姆接触,霍尔效应仪探针与外电极接触,外电极和内电极由引线导通。因此可避免霍尔效应仪探针直接与被测薄膜表面接触,实现无损测试。
声明:
“用于无损检测半导体薄膜霍尔效应的基片及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
分享 0
         
举报 0
收藏 0
反对 0
点赞 0
标签:
无损检测
全国热门有色金属技术推荐
展开更多 +

 

中冶有色技术平台微信公众号
了解更多信息请您扫码关注官方微信
中冶有色技术平台微信公众号中冶有色技术平台

最新更新技术

报名参会
更多+

报告下载

第二届中国微细粒矿物选矿技术大会
推广

热门技术
更多+

衡水宏运压滤机有限公司
宣传
环磨科技控股(集团)有限公司
宣传

发布

在线客服

公众号

电话

顶部
咨询电话:
010-88793500-807
专利人/作者信息登记