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半导体掺杂层厚度无损检测方法

1056   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:57:42
本发明涉及一种外延层厚度无损检测方法，包括：获得外延层的掺杂浓度；获得反向偏置电压值V：使用探针与外延层接触，形成肖特基结，并对肖特基结施加逐步增大的反向偏置电压，记录下电流出现明显变化时的反向偏置电压值V；根据公式进行计算，得到d值即为外延层厚度。本发明所述外延层厚度无损检测方法，对于厚度在5微米以下的外延层，厚度检测精度为0.01微米，且最小的检测厚度为0.1微米，极大促进了外延层检测技术的拓展和准确性，具有高精度、无损检测的优势。
声明：
“半导体掺杂层厚度无损检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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